辰显光电以TFT基Micro-LED技术定义显示新未来

  创新驱动发展"的战略指引下，辰显光电在TFT基Micro - LED领域不断实现技术突破，正逐步成长为“中国智造”的典型范例。通过自研创新与技术攻坚，公司不仅实现了显示技术的跨越式发展，更为行业树立了创新标杆。

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  技术创新引领行业变革

  辰显光电深耕TFT基Micro-LED技术，聚焦即将量产的P0.7 TFT基Micro-LED产品，在混bin算法、混合驱动、共阴极高压芯片、微纳覆膜技术等方面实现了突破，使产品具备了超高亮度、精准色彩、冷屏低功耗、低反射率等特点。

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  在画质均匀性方面，辰显光电采用全球首创的混Bin+Demura技术，成功实现了像素级画质均匀性控制，使亮度均匀性超过98%、波长差异小于2nm；在可靠性提升方面，辰显光电通过多重修复技术体系的应用，针对拼接工艺瓶颈，创新研发了无缝拼接方案将拼缝精度控制在20μm以内。并基于创新的光学表征标准实现屏体间的无痕融合；在视角一致性方面，辰显光电通过Micro-Lens阵列设计重塑发光角度，彻底消除视角分屏现象，实现了170°超大视角范围内亮度差异小于2%的表现。这一系列创新技术从材料匹配、工艺优化到系统设计多维度协同发力，系统性攻克了制约Micro-LED拼接显示产业化的关键技术壁垒。

  当下随着指挥调度、会议、培训、广告信发等场景下显示应用的不断演化，对显示画质、形态、响应速度要求也随之越来越高，而TFT基Micro-LED凭借优异画质和“零边框”设计，消除了传统拼接屏的视觉割裂感，其搭配的AM驱动技术，让画面更加舒适护眼。同时采用无机发光材料，稳定性显著提升，延长屏幕寿命。使得TFT 基 Micro-LED成为新一代显示的标杆。

  产业化创新树立行业先锋

  辰显光电目前已经建成国内首条全制程TFT基Micro-LED量产线，总投资超30亿元，于2025 年实现量产。并规划推出TFT基产品将涵盖在商显领域P0.7至1.0之间不同间距的产品线，广泛应用于商业显示和电视等多个重要领域。通过大规模生产，企业可以利用规模经济的效应降低Micro-LED单位产品的生产成本，从而在价格上更具优势，促进产业链分工优化，促使各个生产环节实现专业化、精细化运作，提升整个产业的协同效应，与此同时，降低边际成本实现进一步挖掘成本控制的潜力，释放利润空间，加速Micro-LED实现技术突破，推动其在大规模市场中的快速普及。

  值得期待的是，辰显光电将于4月16日至18日亮相在北京国家会议中心举办的InfoComm China 2025（展位号：EA7-01）。届时公司将重磅展出新一代量产产品——135英寸P0.7 TFT基Micro-LED拼接屏，并在现场发布一系列最新的产品和系统解决方案，首次公开展示多款创新应用包括超薄显示、透明显示、裸眼 3D 显示、纹理显示等。辰显光电诚邀各界合作伙伴莅临展位，共同见证TFT基Micro-LED在全球产业化进程中的“中国力量”。